China berjaya bina prototaip mesin EUV, sasar cip teknologi sendiri menjelang 2030

CHINA dilaporkan berjaya membina prototaip mesin litografi ultra ungu ekstrem (EUV) buatan tempatan pada awal tahun ini, menurut Reuters.

Ringkasan AI

China berjaya membina prototaip mesin litografi ultra ungu ekstrem (EUV) tempatan di Shenzhen dengan bantuan bekas jurutera ASML.
Walaupun mesin EUV masih tidak dapat menghasilkan cip, kejayaan ini membolehkan China mungkin menghasilkan cip teknologi sendiri menjelang 2028 atau 2030.
Sekatan eksport perkakasan oleh AS dan sekutunya menggalakkan China membangunkan teknologi cip sendiri, mengakibatkan Huawei menggunakan mesin ultra ungu dalam (DUV) generasi terdahulu untuk sambung pengeluaran cip Kirin.

Klik di sini untuk FAQ berkaitan artikel ini

Mesin tersebut dibangunkan di sebuah makmal keselamatan tinggi di Shenzhen dengan bantuan bekas jurutera ASML, sekali gus membuka jalan kepada usaha membina industri cip tanpa bergantung kepada negara luar.

Bagaimanapun, mesin EUV berkenaan masih belum boleh digunakan untuk menghasilkan cip.

Dengan kejayaan ini, China dijangka mampu menghasilkan cip teknologi sendiri seawal 2028 atau selewat-lewatnya 2030, selepas memulakan program pembangunan teknologi cip tempatan enam tahun lalu berikutan sekatan eksport perkakasan oleh Amerika Syarikat dan sekutunya.

Ketika ini, mesin EUV terkini dunia hanya dihasilkan oleh ASML dan digunakan oleh kilang fabrikasi TSMC di Taiwan.

Syarikat seperti Huawei tidak boleh mengakses teknologi TSMC, menyebabkan pengeluaran cip Kirin terhenti beberapa tahun sebelum disambung semula menggunakan mesin ultra ungu dalam (DUV) yang satu generasi ke belakang melalui SMIC.

Mesin EUV diperlukan untuk menghasilkan litar cip dengan kejituan nanometer.

Sebelum ini, Ketua Pegawai Eksekutif ASML, Christophe Fouquet, menyatakan China memerlukan masa yang lama untuk membangunkan teknologi tersebut.

Antara langkah yang diambil bagi melambatkan usaha China termasuk menghalang pelajar negara itu mempelajari subjek berkaitan pembangunan cip semikonduktor di Belanda serta membatalkan visa pelajar yang mengambil subjek kritikal di Amerika Syarikat. -Amanz

Fakta Segera: Jawapan Pantas Dari AI

Q: Apakah kejayaan terkini China dalam bidang teknologi cip yang disebut dalam artikel? A: China berjaya membina prototaip mesin litografi ultra ungu ekstrem (EUV) buatan tempatan dengan bantuan bekas jurutera ASML.
Q: Apa yang dijangka China mampu capai berdasarkan kejayaan dalam pembinaan mesin EUV? A: China dijangka mampu menghasilkan cip teknologi sendiri seawal 2028 atau selewat-lewatnya 2030.
Q: Mengapa pengeluaran cip Huawei terhenti sebelum menggunakan mesin ultra ungu dalam (DUV) generasi terkini? A: Huawei tidak boleh mengakses teknologi TSMC dan pengeluaran cip Kirin terhenti sebelum disambung semula menggunakan mesin DUV melalui SMIC.
Q: Apa yang dinyatakan oleh Ketua Pegawai Eksekutif ASML mengenai China dalam artikel? A: Christophe Fouquet menyatakan China memerlukan masa yang lama untuk membangunkan teknologi mesin EUV.
Q: Apakah langkah yang diambil untuk melambatkan usaha China dalam pembangunan teknologi cip semikonduktor? A: Langkah yang diambil termasuk menghalang pelajar China mempelajari subjek berkaitan pembangunan cip di Belanda serta membatalkan visa pelajar yang mengambil subjek kritikal di Amerika Syarikat.